Harga Pabrik P-Hydroxyacetophenone/4 -Hydroxyacetophenone CAS 99-93-4

P-hidroksiasetofenon

Deskripsi Singkat:

Kosmate^®PHA ,P-hydroxyacetophenone merupakan ekstrak tumbuhan alami yang terdapat pada batang dan daun Artemisia scoparia Compositae, akar Artemisia capillaris, tumbuhan Arubaceae, ginseng waierteng dan tumbuhan lainnya.

Nama dagang:Cosmate®PHA

Nama Produk:P-hidroksiasetofenon

Nama INCI:P-hidroksiasetofenon

Rumus Molekul:C8H8O2

Nomor CAS:99-93-4

Pesan Daring E-mail Ada apa

Detail Produk

Mengapa Air Mancur Zhonghe

Label Produk

Keunggulan kami adalah harga yang lebih rendah, tim penjualan yang dinamis, QC khusus, pabrik yang kuat, produk dan layanan berkualitas tinggi untuk Harga Pabrik P-Hidroksiasetofenon/4 -HidroksiasetofenonCAS 99-93-4, Setiap saat, kami selalu fokus pada semua fakta untuk memastikan setiap produk atau layanan disukai oleh klien kami.
Keunggulan kami adalah harga yang lebih rendah, tim penjualan yang dinamis, QC khusus, pabrik yang kuat, produk dan layanan berkualitas tinggiCina 4′-Hidroksiasetofenon, Hidroksiasetofenon, P-hidroksiasetofenon, Tujuan perusahaan: Kepuasan pelanggan adalah tujuan kami, dan sangat berharap dapat membangun hubungan kerjasama jangka panjang yang stabil dengan pelanggan untuk bersama-sama mengembangkan pasar. Membangun hari esok yang cemerlang bersama-sama! Perusahaan kami menganggap "harga wajar, waktu produksi yang efisien, dan layanan purna jual yang baik" sebagai prinsip kami. Kami berharap dapat bekerja sama dengan lebih banyak pelanggan untuk pengembangan dan manfaat bersama. Kami menyambut pembeli potensial untuk menghubungi kami.
Kosmate^®PHA,P-hidroksiasetofenonmerupakan ekstrak tumbuhan alami yang terdapat pada batang dan daun Artemisia scoparia Compositae, akar Artemisia capillaris, tumbuhan Arubaceae, ginseng waierteng dan tumbuhan lainnya.

Kosmate^®PHA,P-hydroxyacetophenone,Hydroxyacetophenone,4-Acetylphenol, 4-Hydroxyacetophenone,2,3,6-Trimethylphenol,1-(4-Hydroxypheny1) ethanone,adalah ekstrak tumbuhan alami, yang terdapat pada batang dan daun Artemisia scoparia dari Compositae, akar Artemisia capillaris, tanaman Arubaceae, ginseng waierteng dan tanaman lainnya. P-hydroxyacetophenone mudah terbakar dan mudah larut dalam air panas pada suhu kamar

P-hydroxyacetophenone adalah bahan baku kosmetik baru dengan anti korosi dan promosi sinergi, efektif untuk jamur dan perlu dikombinasikan dengan bahan pengawet tradisional. Bahan pengawet berkualitas buruk berbahaya bagi kulit manusia, bahkan dapat menyebabkan reaksi alergi jika kita menggunakannya. sering. Jadi bahan pengawet yang ada pada produk perawatan kulit dan kosmetik kita haruslah bersifat ringan dan komposisinya stabil.

P-hydroxyacetone merupakan penstabil aktif tambahan suhu tinggi yang paling aman. Banyak produk perawatan kulit dan kosmetik yang mengatakan tidak ada bahan pengawet pada produknya, nyatanya mereka hanya menggunakan P-hydroxyacetophenone sebagai pengganti bahan pengawet, karena P-hydroxyacetophenone merupakan bahan baku kosmetik multifungsi.

P-hydroxyacetophenone ,Hydroxyacetophenone adalah bahan antioksidan dan pengkondisi kulit. Senyawa antioksidan spesifik sebenarnya dikenal sebagai p-hydroxyacetophenone, antioksidan fenolik yang mampu menetralkan beberapa jenis radikal bebas. Manfaat kedua adalah meningkatkan sistem pengawetan kosmetik. Hal ini menguntungkan karena memungkinkan ahli kimia kosmetik menggunakan bahan pengawet dalam jumlah lebih sedikit (seperti fenoksietanol) tanpa kehilangan kemanjurannya namun dengan manfaat mengurangi risiko reaksi alergi. Hydroxyacetophenone juga memiliki kemampuan menenangkan karena dapat menghambat enzim pada permukaan kulit yang dapat menimbulkan tanda iritasi.

P-hydroxyacetophenone memiliki efek sinergis dengan bahan pengawet lain yang memiliki prospek aplikasi yang luas, biasanya digunakan sebagai Anti-Peradangan, Antioksidan Pengawet dan lain-lain.

Parameter Teknis:

Penampilan	Bubuk kristal putih
pengujian	99% menit.
Titik lebur	109℃~113℃
Kerugian pada Pengeringan	maks 0,5%.
Abu Sulfat	maks 0,2%.
Logam Berat	maks 10ppm.
Zat Terkait	0,1%maks.