Bahan Baku Kosmetik Profesional Cina 99,5% 4-Hidroksiasetofenon CAS 99-93-4 P-Hidroksiasetofenon

P-hidroksiasetofenon

Deskripsi Singkat:

Kosmate®PHA, P-hydroxyacetophenone merupakan ekstrak tumbuhan alami, yang terdapat pada batang dan daun Artemisia scoparia dari Compositae, akar Artemisia capillaris, tumbuhan Arubaceae, ginseng waierteng dan tumbuhan lainnya.


  • Nama dagang:Cosmate®PHA
  • Nama Produk:P-hidroksiasetofenon
  • Nama INCI:P-hidroksiasetofenon
  • Rumus Molekul:C8H8O2
  • Nomor CAS:Nomor telepon 99-93-4
  • Detail Produk

    Mengapa Air Mancur Zhonghe

    Label Produk

    Kami memikirkan apa yang dipikirkan pelanggan, urgensi untuk bertindak berdasarkan kepentingan posisi pembeli dalam teori, memungkinkan kualitas yang jauh lebih baik, biaya pemrosesan yang lebih rendah, harga yang sangat wajar, memenangkan dukungan dan penegasan dari pembeli baru dan lama untuk Bahan Baku Kosmetik Profesional Cina 99,5% 4-Hidroksiasetofenon CAS 99-93-4 P-Hidroksiasetofenon, Kami menyambut konsumen baru dan lama dari semua lapisan masyarakat untuk berbicara dengan kami untuk interaksi bisnis yang akan datang dan pencapaian bersama.
    Kami berpikir apa yang dipikirkan pelanggan, urgensi mendesak untuk bertindak selama kepentingan posisi pembeli teori, memungkinkan kualitas yang jauh lebih baik, biaya pemrosesan yang lebih rendah, harga yang lebih masuk akal, memenangkan pembeli baru dan lama dukungan dan penegasan untukCina 4′-Hidroksiasetofenon dan 99-93-4Kami terus melayani klien lokal dan internasional kami yang terus berkembang. Kami bertekad untuk menjadi pemimpin dunia dalam industri ini, dan dengan semangat ini, merupakan suatu kebahagiaan bagi kami untuk melayani dan memberikan tingkat kepuasan tertinggi di pasar yang sedang berkembang.
    Kosmate®PHA, P-hydroxyacetophenone merupakan ekstrak tumbuhan alami, yang terdapat pada batang dan daun Artemisia scoparia dari Compositae, akar Artemisia capillaris, tumbuhan Arubaceae, ginseng waierteng dan tumbuhan lainnya.

    Kosmate®PHA, P-hidroksiasetofenon, Hidroksiasetofenon, 4-Asetilfenon, 4-Hidroksiasetofenon, 2,3,6-Trimetilfenon, 1-(4-Hidroksifenil)etanon, adalah ekstrak tumbuhan alami yang terdapat pada batang dan daun Artemisia scoparia dari Compositae, akar Artemisia capillaris, tumbuhan Arubaceae, ginseng waierteng, dan tumbuhan lainnya. P-hidroksiasetofenon mudah terbakar dan larut dalam air panas pada suhu ruangan.

    P-hidroksiasetofenon adalah bahan baku kosmetik baru dengan sifat anti-korosi dan sinergis. Bahan ini efektif melawan jamur dan perlu dikombinasikan dengan pengawet konvensional. Pengawet berkualitas buruk berbahaya bagi kulit manusia, bahkan dapat menyebabkan reaksi alergi jika digunakan secara berlebihan. Oleh karena itu, pengawet yang digunakan dalam produk perawatan kulit dan kosmetik kita harus bersifat ringan dan komposisinya stabil.

    P-hidroksiaseton merupakan zat penstabil aktif tambahan yang tahan suhu tinggi. Banyak produk perawatan kulit dan kosmetik yang menyatakan tidak mengandung bahan pengawet, padahal mereka hanya menggunakan P-hidroksiasetofenon sebagai pengganti bahan pengawet, karena P-hidroksiasetofenon merupakan bahan baku kosmetik yang multifungsi.

    P-hidroksiasetofenon, Hidroksiasetofenon, adalah bahan antioksidan dan pengkondisi kulit. Senyawa antioksidan spesifik ini dikenal sebagai p-hidroksiasetofenon, suatu antioksidan fenolik yang mampu menetralkan beberapa jenis radikal bebas. Manfaat sekundernya adalah meningkatkan sistem pengawetan dalam kosmetik. Hal ini menguntungkan karena memungkinkan ahli kimia kosmetik untuk menggunakan lebih sedikit pengawet (seperti fenoksietanol) tanpa mengurangi efektivitasnya, tetapi dengan manfaat mengurangi risiko reaksi alergi. Hidroksiasetofenon juga memiliki kemampuan menenangkan karena dapat menghambat enzim di permukaan kulit yang dapat menyebabkan tanda-tanda iritasi.

    P-hydroxyacetophenone mempunyai efek sinergis dengan bahan pengawet lainnya dan memiliki prospek aplikasi yang luas, biasanya digunakan sebagai Anti-Peradangan, Pengawet Antioksidan dan lain-lain.

    Parameter Teknis:

    Penampilan Bubuk kristal putih
    Pengujian 99% menit.
    Titik lebur 109℃~113℃
    Kerugian pada Pengeringan 0,5% maks.
    Abu Sulfat 0,2% maks.
    Logam Berat 10ppm maks.
    Zat Terkait 0,1% maks.

    Aplikasi:

    *Anti-Peradangan

    *Pengawet

    *Antioksidan


  • Sebelumnya:
  • Berikutnya:

  • *Pasokan Langsung Pabrik

    *Dukungan Teknis

    *Dukungan Sampel

    *Dukungan Perintah Uji Coba

    *Dukungan Pesanan Kecil

    *Inovasi Berkelanjutan

    *Spesialisasi dalam Bahan Aktif

    *Semua Bahan Dapat Dilacak